北京优仕锦科技发展有限公司根据半导体行业发展需要,配合光刻技术需要双面处理,开发出双面无划痕台式匀胶机,填补了国内企业在生产需求光刻工艺时,需要双面处理晶体匀胶而无法达到工艺要求。北京优仕锦公司根据这一要求,首次开发出双面匀胶机,其匀胶承载体采用新型材料,“聚甲醛”作为特制托盘,其特点是在匀胶时,对工艺要求较高的光刻匀胶处理时,单面匀胶后在进行双面匀胶无划痕,有效的保护了表面微处理效果,是传统的铝合金制品托盘比拟不了的。同时聚甲醛托盘具有重量轻,配合匀胶高转速更精确,耐腐蚀等特点。北京优仕锦科技发展有限公司已经申请产品实用新型专利。 聚甲醛(英文:polyformaldehyde)热塑性结晶聚合物。被誉为“超钢”或者“赛钢”,又称聚氧亚甲基。结构为,英文缩写为POM。 匀胶旋涂机(SPIN COATING) 产品型号:KW-4A 匀胶机产品俗称:甩胶机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、真空镀膜机,其技术标准按照美国技术完成。产品外形美观一致性好,操作简便。 产品构造:北京优仕锦公司匀胶机面板采用高档烤瓷晶技术,高档洁净。关键控制元器件定子和转子采用韩国进口;电机采用直流永磁电机;接胶盘采用304不锈钢一次性锻压成型,并且进行表面特殊防腐技术处理;托盘采用铝合金体一次性宪制。整机装配由北京优仕锦公司技术工程师按照标准技术完成,并且出厂前经过严格检测与效验。 工作原理:高速的旋转离心力,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。 使用范围:KW-4A型匀胶机可广泛应用于新型显示技术研发,即非晶硅、微晶硅薄膜晶体管(TFT)阵列基板的制备,指通过旋转离心力的方式把胶体(如光刻胶、环氧树脂等)均匀的涂敷在光学器件上。该设备具有以下功能:能够保证实方形基板的匀胶膜厚度均匀性达到±3%,且表面无环形涟漪出现;能够保障TFT阵列基板制备工艺技术的顺利开发,TFT阵列基板试验线的组建。(即适用于半导体、制版及表面涂覆等工艺,可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用)其销售市场为韩国,台湾,朝鲜,香港,美国(主要供应:美国HEADWAY公司 美国CHEMSOLS公司),及中国大陆 本机具有以下特点: 设定参数: 匀胶机主机尺寸:220mm X 210mm X 160mm OSK公司作为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将匀胶机、光刻机商品化的公司,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;依优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。 匀胶机的面板颜色有烤瓷黑与烤瓷白,客户若无指定,按随机发货。(匀胶机承载片样托一台配两个,特殊样品可以免费订制) |