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国内厂家供应高纯电子级正硅酸四乙酯TEOS
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电子级正硅酸四乙酯/TEOS
名称 | 正硅酸四乙酯(TEOS) |
化学式 | C8H20O4Si |
相对分子量 | 208.33 |
CAS号 | 78-10-4 |
理化性质 | 无色透明液体，熔点－77℃，沸点168.5℃，密度0.9346g/ml。在空气中较稳定；微溶于水，在纯水中水解缓慢；在酸或碱的存在下能加速水解作用。 |
主要用于晶圆制造过程中的化学气相沉积（CVD）制程，用于生成二氧化硅和氮化硅薄膜。是半导体、分立器件、微机电系统（MEMS）制造所需的电子化学品。
CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /AtomicLayer Depostion )化学气相沉积材料
Dielectrics PMD/IMD | TEOS ,TEPO,TMPO,TEB,TMB |
Low K Dielectrics | 4MS ,OMCATS |
High K Dielectrics | TAETO (Ta2O5 Precursor ) TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor) TMA (Al2O3 Precursor) |
Metal Gate and Interconnect Metal | TDMAT (TiN Precursor ) TiCl4 ( Ti /TiN Precursor ) |
Low-Temp Nitride/Oxide | HCDS |
Diffusion | POCl3 |
供应半导体化学气相沉积材料，专业研发及制造各种先进CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料，TDMAT / InCl3/TEOS/TMB/TEBPrecursor，TDMAT/TiCl4/TMA/TEASAT/InI/InF3/InCl3/High-K/Low-KMaterial，TEOS,TMB,TEB,TMPO,TEPO,TDMAT,TiCl4等。