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国内厂家供应高纯电子级正硅酸四乙酯TEOS

¥28000

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规格:8N

包装:不锈钢瓶

品牌:leadmat

深圳市旺达康科技有限公司

 
     
     
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电子级正硅酸四乙酯/TEOS

名称

正硅酸四乙酯(TEOS)

化学式

C8H20O4Si

相对分子量

208.33

CAS

78-10-4

理化性质

无色透明液体,熔点-77℃,沸点168.5℃,密度0.9346g/ml。在空气中较稳定;微溶于水,在纯水中水解缓慢;在酸或碱的存在下能加速水解作用。

主要用途

主要用于晶圆制造过程中的化学气相沉积(CVD)制程,用于生成二氧化硅和氮化硅薄膜。是半导体、分立器件、微机电系统(MEMS)制造所需的电子化学品。

典型应用

CVD类型

材料

APCVD

TEOS,O3

LPCVD

TEOS

PECVD

TEOS,O2


供应半导体化学气相沉积材料,专业研发及制造各种先进CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料,TDMAT / InCl3/TEOS/TMB/TEBPrecursorTDMAT/TiCl4/TMA/TEASAT/InI/InF3/InCl3/High-K/Low-KMaterialTEOS,TMB,TEB,TMPO,TEPO,TDMAT,TiCl4等。

前驱体材料 Precursor Material


序号

中文名

化学式

CAS

中文别名

英文名

1

三甲基铝

C3H9Al

75-24-1

三甲基铝

Trimethylaluminium

2

三甲基锑

Sb(CH3)3

594-10-5

三甲基锑

Trimethylantimony

3

三乙基锑

C6H15Sb

617-85-6

三乙基锑

Antimony  triethide

4

二叔丁基碲

PhTeMgBr

83817-35-0

二叔丁基碲

Tert-butyl  telluride

5

二乙基碲

Te(C2H5)2

627-54-3

二乙基碲

Telluriumdiethyl

6

二异丙基碲

C6H14Te

51112-72-2

二异丙基碲

Diisopropyl  telluride

7

三(二甲氨基)镓

Ga(N(CH3)2)3

57731-40-5

(二甲基酰氨基)(III)

Tris(dimethylamido)gallium(III)

8

三(二甲氨基)硅

C6H19N3Si

15112-89-7

(二甲胺基)硅烷

Tris(dimethylamino)silane

9

三(二甲氨基)锑

C6H18N3Sb

7289-92-1

(二甲氨基)

Tris(dimethylamino)antimony

10

四(二甲氨基)铪

C8H24HfN4

19962-11-9

(二乙氨基)

Tetrakis(diethylamion)hafnium

11

四(甲乙胺基)铪

C12H32HfN4

352535-01-4

四双(乙基甲基氨)(IV)

Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium(IV)

12

四(二甲氨基)锗

C8H24GaN4

7344-40-3

四(二甲氨基)锗

Germanium  dimethylamide

13

四(二甲氨基)锆

C8H24N4Zr

19756-04-8

(二乙氨基)()

Tetrakis(diethylamion)zirconium(  )

14

四(甲乙胺基)锆

C12H32N4Zr

175923-04-3

(乙基甲基氨基)(IV)

Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(iv)

15

四(二甲氨基)锡

C8H24N4Sn

1066-77-9

四(二甲氨基)锡

Tetrakis(dimethylamino)tin

16

四(二甲氨基)钛

C8H24N4Ti

3275-24-9

四(二甲氨基)钛

Titanium  tetrakis(dimethylamide)/TDMAT

17

四(甲乙胺基)钒

C12H32N4V

791114-66-4

(乙基甲基氨基)

Tetrakis(ethylmethylamino)vanadium


18

五(乙氧基)钽

C10H30O5Ta

6074-84-6

乙醇钽(V)

Tantalum(5+)  ethanolate


19

五(二甲氨基)钽

C10H30N5Ta

19824-59-0

五(二甲氨基)钽

Pentakis(dimethylamino)tantalum(V)






二环茂二烯铁 ;双环戊二烯基铁 ;

Ferrocene


20

二茂铁

C10H10Fe

102-54-5

环戊二茂铁




21

二茂锰

C10H10Mn

73138-26-8

(环戊二基)

Bis(cyclopentadienyl)manganese(  )


22

二茂镍

C10H10Ni

1271-28-9

(环戊二烯)

Bis(η5-2,4-cyclopentadien  -1-yl)nickel


23

二茂钌

C10H10Ru

1287-13-4

(环戊二烯)

Ruthenocene


24

甲基二茂镁

C12H14Mg

40672-08-0

(甲基环戊二烯)

Bis(methylcyclopentadienyl)magnesium


25

乙基二茂镁

C14H18Mg

114460-02-5

(乙基环戊二烯)

Bis(ethylcyclopentadienyl)magnesium


26

乙基二茂锰

C14H18Mn

101923-26-6

(乙基环戊二烯基 )(II)

Bis(ethylcyclopentadienyl)manganese


27

乙基二茂钌

C7H9RuC7H9

32992-96-4

(乙基环戊二烯基 )(II)

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II)


28

三甲基甲基环戊二烯基铂

C9H16Pt

94442-22-5

(三甲基)甲基环戊二烯合铂 (IV)

(Trimethyl)methylcyclopentadienylplatinum  (IV)


29

(四甲基庚二酮)锂

C11H19LiO2

22441-13-0

2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)

(2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-heptanedionato)lithium


30

(四甲基庚二酮)银

C11H19AgO2

79827-25-1

2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸根银(I)

2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-heptanedionato  silver (I)


31

二(六氟戊二酮)铜

C10H2CuF12O4

14781-45-4

(六氟乙酰丙酮)合铜(II)

Copper(II)  hexafluoro-2,4-pentanedionate


32

三(乙酰丙酮)铱

C15H21IrO6

15635-87-7

(乙酰丙酮根)合铱(III)

Iridium(III)  acetylacetonate


33

三(四甲基庚二酮)镧

C33H57LaO6

14319-13-2

(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)

BIS(2,2,6,6-TETRAMETHYL-3,5-HEPTANEDIONATO)LEAD(II)


34

二(四甲基庚二酮)铅

C22H38O4Pb

21319-43-7

(2,2,6,6,-四甲基-3,5-庚二酮酸)

BIS(2,2,6,6-TETRAMETHYL-3,5-HEPTANEDIONATO)LEAD(II)


35

三(四甲基庚二酮)铋

C33H57BiO6

142617-53-6

(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酸)

BISMUTH TRIS(2,2,6,6-TETRAMETHYL-3,5-HEPTANEDIONATE)


36

三(四甲基庚二酮)铒

C33H57ErO6

34750-80-6

(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)

ERBIUM TRIS(2,2,6,6-TETRAMETHYL -3,5-HEPTANEDIONATE)


37

三(四甲基庚二酮)钇

C33H57O6Y

15632-39-0

(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)

TRIS(2,2,6,6-TETRAMETHYL-3,5-HEPTANEDIONATO)YTTRIUM(III)


38

环戊二烯铟

C5H5In

34822-89-4

环戊二烯铟(I)

Cyclopentadienylindium  (I)


39

四氯化锡

Cl4Sn

7646-78-8

四氯化锡

Tin  tetrachloride


40

四异丙醇钛

C12H28O4Ti

546-68-9

钛酸四异丙酯

Titanium  tetraisopropanolate


41

叔丁醇锂

C4H9LiO

1907-33-1

叔丁醇锂

Lithium  tert-butoxide





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